스핀디벨로퍼
Photo 공정에서 pattern 현상
문의 : 소문정  (031-201-3295~6) speercow@khu.ac.kr
라해진  (031-201-3295~6) mocona777@khu.ac.kr
제조사 : 한국 (신도기연)
모델명 : SDSP-KH01
Glass 기판 혹은 silicon wafer 등의 thin film 위에 코팅/노광된 photo resist를 spray-puddle 방식으로 현상액을 이용하여 UV와 반응한 노광영역과 노광되지 않은 영역을 선택적으로 제거하고 rinse하는 장비이다

* Work Size : 6" X 6"
* 방식 : 현상액(Develop) Spray 처리방식
* Work 고정방식 : 진공흡착방식
* 건조 Air Knife Module 설치 : Slit식 air knife로 건조
* 순환 Pump : Magnetic형 seal less pump
* Spray Nozzle : Ikeuchi 1/4MVP9010 PVDF
* Spray Pressure : Max 0.08 MPa
* Filter : 현상액용 5.0 um (제거율 99.99%)
* 현상액 Tank 용량 : 단독순환 tank 30L